위에서 설명한 이전의 반사 챔버 디자인과 관련된 문제를 극복하는 설계가 개발되었습니다. 이 디자인은 이중 석영 구성을 사용합니다. 내부 석영 램프 슬리브는 대부분의 UV 시스템에서와 마찬가지로 물에서 램프를 분리합니다. 그런 다음 더 큰 외부 석영 유량 튜브를 사용하여 흐름의 외부 봉쇄를 생성합니다. 반사 재료는 석영 유동 튜브 의 외부에 배치됩니다. 도 1은 개념을 시각화하는 데 도움이 되는 디자인의 컷어웨이를 보여 줍니다.
이 설계에서 램프는 본질적으로 모든 UV를 유량 튜브에 직접 도입하고 반사판은 주어진 시간에 물 흐름 부피 외부에 있는 UV의 극히 일부만으로 광자를 물 흐름으로 반환합니다. UV는 챔버 벽에 의해 손실(흡수) 또는 물 흐름 외부의 부피에 거주하기보다는 표적 DNA 또는 TOC 분자에 흡수될 때까지 물 부피로 유지됩니다. 이것은 동일한 저압 램프에서 나오는 빛이 기존의 또는 다른 반사 챔버보다이 챔버에서 보다 효율적으로 사용되도록합니다.
이 설계에 필요한 두 가지 주요 요구 사항은 제공할 수 있는 성능의 현저한 향상을 달성하는 데 필요한 것입니다. 이러한 요구 사항을 동시에 충족해야 하며, 하나 만 만족하면 성능이 향상되지 않습니다. 첫 번째 요구 사항은 반사 재료가 UV 광에 반사되는 데 최소 80 %가 필요하다는 것입니다. 두 번째 중요한 요구 사항은 반사 물질이 치료 영역 (80 % 적용)의 적어도 80 %를 둘러싸야한다는 것입니다. 테스트 및 시뮬레이션에 따르면 이러한 두 요구 사항을 충족하지 않는 챔버는 성능이 크게 향상되지 않습니다.
도 2의 차트는 두 요구 사항이 모두 충족될 때 종래의 스테인리스 강챔버에서 UV 강도가 크게 증가하는 것을 보여줍니다. 반사가 80% 이상이고 커버리지가 80% 미만이고 반사가 80% 미만이고 반사도가 80% 미만일 때 기준선 스테인리스 강챔버에 비해 성능이 소폭 증가하지만, 반사와 커버리지가 모두 80% 이상이면 정말 유의하게 증가합니다.
애리조나 대학에 의해 발표 된 독립적 인 연구는 이론적으로와 실험적으로 이 효과를 확인했습니다. 중국 과학 아카데미와 앨버타 2 대학의 이전 논문은 또한 높은 반사율개선을 나타냅니다,이 논문은 % 범위를 결정하기에 충분한 정보가 없지만.
