식음료 시장에는 생수, 식품 포장, 작물 관개, 탄산 및 무탄산 음료, 유제품, 육류 및 가금류 가공 공장과 같은 다양한 산업이 포함됩니다. 자외선(UV) 기술은 이러한 관련 산업에서 병원성 미생물 제어에 성공적으로 사용되었습니다.
수처리에서 UV 광의 일반적인 적용은 소독이지만 이 기술은 TOC(총 유기 탄소), 유리 염소/클로라민을 줄이고 오존을 제거하는 데에도 사용할 수 있습니다.
아구아 토포네UV 시스템또한 식품 또는 음료의 성분인 모든 제품 물의 소독에 사용할 수 있습니다. 농축액, 청량 음료, 차 및 맥주를 위한 생수 및 제품 물은 일반적으로 Agua Topone 254nm UV 시스템을 사용하여 멸균됩니다.
고온 살균 기술은 낮은 자외선 투과율(UVT)과 일정 수준의 부유 고형물(SS) 및 총 용존 고형물(TDS)을 처리하는 데 매우 효과적이며 많은 제품 제조업체에 이상적이지만 저온 살균법 박테리아 기술은 에너지 비용이 많이 들기 때문에 비용은 계속 증가하고 UV 기술은 저온 살균보다 친환경적이고 효율적입니다. UV 처리는 액체의 물리적 특성을 변경하지 않고 화학 처리와 관련된 문제를 피할 수 있는 비화학 공정으로 물 흐름에서 염소를 제거하는 비용을 제거합니다. 중요하게도, UV 처리는 규제 기관에 의해 발암 물질로 분류된 트리할로메탄(THM)과 같은 소독 부산물의 형성을 촉진하지 않습니다(음용수의 특정 수준).
Agua Topone UV 시스템은 활성탄층 대신에 또는 활성탄층과 함께 사용하여 염소와 클로라민을 줄이거나 제거하면서 3 로그 이상의 생물학적 감소를 제공할 수 있습니다. 전처리 단계에서 염소와 클로라민을 제거합니다.
첫 번째 소독: 이것은 수처리에서 UV 광의 일반적인 적용입니다. 적절한 크기의 UV 시스템은 1-년 램프 수명(EOL) 동안 30{2}}마이크로와트-초(또는 30mJ/cm2)의 최소 선량으로 최소 3 Log 미생물 제거를 달성할 수 있습니다. 몇 가지 일반적인 설치 위치는 충전 지점, 플러싱 지점, 염수 용액, 탄소 필터 후,역삼투압 살균기, 다운스트림 물 저장 탱크 및 업스트림 시럽 저장 탱크. 활성탄 흡착 베드의 다운스트림 및/또는 멤브레인 필터 또는 RO의 업스트림과 같은 프로세스 루프의 적절한 위치에 설치하면 UV 시스템이 최소 99.9%를 죽일 수 있습니다. 유입 스트림의 박테리아를 제거하여 미생물 개체군을 크게 줄입니다.
두 번째 TOC 감소: 초순수 시스템에서 UV 처리는 유기물(일반적으로 TOC라고 함)을 효과적으로 줄이는 데 사용됩니다. TOC 감소는 적절하게 설계되고 적절한 크기와 적절하게 배치된 185nm UV 물 시스템을 통합하여 달성됩니다.
세 번째 오존 파괴: 오존은 물 시스템의 전처리 영역과 소독 공정 및 재순환 시스템에서 일반적으로 사용됩니다. 사용하기 전에 잔류 오존을 제거하여 제품이 오염되지 않도록 해야 합니다. 비화학 물질로 인해, UV 기술의 빠른 작동 메커니즘, 이 기술은 이 응용 프로그램에 선택되는 방법입니다.
적절한 변수를 적절히 고려한 후 적절한 크기의 UV 장치는 오존이 검출 한계 아래로 제거되도록 하여 공정 및 제품 무결성을 보장할 수 있습니다.
네 번째 염소/클로라민 제거: 수돗물에 염소와 클로라민을 추가하면 박테리아 수준을 제어할 수 있지만 막 여과 또는 역삼투막에 악영향을 미칠 수 있습니다. 활성탄 흡착 베드 또는 화학 물질 주입과 같은 잔류 염소/클로라민을 제거하는 일반적인 방법은 증명된 문제.
